氧氣充入浮選機中會使礦漿電位提高

       通過控制浮選體系和濕法冶金體系的電位條件， 調控礦物浮選分離行為， 催化礦物的溶解過程， 有希望發(fā)展一種以礦漿電位為控制參數(shù)的硫化礦電位調控浮選技術與礦漿電解技術及礦物生物提取技術，這些反應都會造成磨礦過程的還原性。

        因此， 磨礦過程的礦漿電位比浮選機中的電位要低得多， 除了磨礦中鐵球的還原性之外， 浮選是一個不斷充氣的過程， 氧氣充入浮選機中會使礦漿電位提高。如果將捕收劑、 重錘破抑制劑及石灰加入磨礦機中與硫化礦一同磨剝， 硫化礦與捕收劑作用時的礦漿電位環(huán)境會有利于硫化礦物之間的分離。

         下面以方鉛礦、 黃鐵礦及閃鋅礦為例來說明這個問題。在磨礦過程中， 方鉛礦、 黃鐵礦、 閃鋅礦及磨球之間會發(fā)生電化學相互作用和電催化作用。所有的硫化礦物中， 黃鐵礦具有最高的表面靜電位 ， 固體的越高其電化學活性越低。按電化學活性的大小來分類： 黃鐵礦 閃鋅礦 方鉛礦鐵。